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CMP 장비에서 슬러리 응집 및 오염을 완화하기 위한 소수성 표면 코팅 2025.11.05해당카페글 미리보기
CMP (Chemical Mechanical Polishing)는 반도체 제조 공정에 서 웨이퍼 전면의 평탄화를 달성하기 위한 핵심 기술로, 화학 반응과 기계적 연마를 결합하여 과잉 증착된 층을 균일하게 제거함으로써 후속 포토리소그래피 및 식각 공 정의 정합성과 해상도를...
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한미반도체 2026.07.04해당카페글 미리보기
1. SEMES는 기술력이 약한 회사가 아니다. 오히려 SEMES는 국내 최대 반도체 장비회사 중 하나입니다. 식각 세정 CMP 검사장비 웨이퍼 이송 등 여러 분야에서는 세계적인 기술력을 갖고 있습니다. 삼성전자가 사용하는 장비 중 상당수가 SEMES 제품입니다...
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내가 너무 즐거워서 2026.07.03해당카페글 미리보기
정부가 과연 그럴 수 있는지 지켜볼일이다. ○ 초순수(UPW) 반도체 공장은 물을 엄청 많이 쓴다. 반도체 제조(특히 웨이퍼 세정, 식각, CMP 공정)는 초순수(UPW, Ultra Pure Water)를 대량 사용한다. 대형 파운드리 공장 1개가 하루 수만~수십만 톤 물을...
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7-15시장. 반도체 소부장, 바이오, 그리고 ETF 2026.07.14해당카페글 미리보기
박리액 개발. 웨이퍼 세정장비 공급, 하이브리드본등공정용 장비개발 - 월덱스 : 실리콘 부품, 쿼츠부품 - 케이씨텍 : CMP슬러리, 웨이퍼 표면 연마하는 소모성 소재 및 장비생산 3) 광반도체 그리고 광통신 : 다음 병목은 어디인가? 광통신네트워크...
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말과 행동이 다른 재명? ㅡ 겉다르고 속다른 이중인격자? 2026.03.08해당카페글 미리보기
포함된 것으로 조사됐다. 수사 결과 주범인 A씨는 2018년 임원 승진에서 탈락한 뒤 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조 사업을 함께 하기로 약정하고 범행을 준비한 것으로 드러났다. 그는 회사에 재직한 채 메신저 등을 이용...
