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CMP 장비에서 슬러리 응집 및 오염을 완화하기 위한 소수성 표면 코팅 2025.11.05해당카페글 미리보기
CMP (Chemical Mechanical Polishing)는 반도체 제조 공정에 서 웨이퍼 전면의 평탄화를 달성하기 위한 핵심 기술로, 화학 반응과 기계적 연마를 결합하여 과잉 증착된 층을 균일하게 제거함으로써 후속 포토리소그래피 및 식각 공 정의 정합성과 해상도를...
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한미반도체 2026.07.04해당카페글 미리보기
1. SEMES는 기술력이 약한 회사가 아니다. 오히려 SEMES는 국내 최대 반도체 장비회사 중 하나입니다. 식각 세정 CMP 검사장비 웨이퍼 이송 등 여러 분야에서는 세계적인 기술력을 갖고 있습니다. 삼성전자가 사용하는 장비 중 상당수가 SEMES 제품입니다...
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내가 너무 즐거워서 2026.07.03해당카페글 미리보기
정부가 과연 그럴 수 있는지 지켜볼일이다. ○ 초순수(UPW) 반도체 공장은 물을 엄청 많이 쓴다. 반도체 제조(특히 웨이퍼 세정, 식각, CMP 공정)는 초순수(UPW, Ultra Pure Water)를 대량 사용한다. 대형 파운드리 공장 1개가 하루 수만~수십만 톤 물을...
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7-15시장. 반도체 소부장, 바이오, 그리고 ETF 2026.07.14해당카페글 미리보기
박리액 개발. 웨이퍼 세정장비 공급, 하이브리드본등공정용 장비개발 - 월덱스 : 실리콘 부품, 쿼츠부품 - 케이씨텍 : CMP슬러리, 웨이퍼 표면 연마하는 소모성 소재 및 장비생산 3) 광반도체 그리고 광통신 : 다음 병목은 어디인가? 광통신네트워크...
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말과 행동이 다른 재명? ㅡ 겉다르고 속다른 이중인격자? 2026.03.08해당카페글 미리보기
포함된 것으로 조사됐다. 수사 결과 주범인 A씨는 2018년 임원 승진에서 탈락한 뒤 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조 사업을 함께 하기로 약정하고 범행을 준비한 것으로 드러났다. 그는 회사에 재직한 채 메신저 등을 이용...
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골수형성이상증후군의 발병과 업무 사이에 상당인과관계가 있다고 추단할 수 있다고 본 사례(반도체 웨이퍼 연마 및 세정 등 의 업무) 2025.05.06해당카페글 미리보기
있었으나, 측정결과는 모두 불검출이었다. 나) 이 사건 사업장의 작업 공정 및 망인의 직무 이 사건 사업장의 웨이퍼 가공 공정은 웨이퍼 입고 → 엣지 연마 → 랩핑 → 열처리 → 폴리싱(DMP, CMP) → 검사 순서로 진행되었다. 랩핑 공정은 2인치, 4인치...
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파운드리 산업이 PCB OEM 방식과 유사하나?? 2026.02.17해당카페글 미리보기
의존도가 높음 제품 단가가 낮고 대량 생산 중심 파운드리 제조 공정이 매우 정밀: 수 nm 단위 노광, 화학적 식각, CMP, 드라이 및 웨이퍼 검사 설계와 제조 간 상호 검증 필요 (DFM → Design-for-Manufacturing, PDK 기반) 생산 장비 값이 매우 높고...
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半導体材料の世界市場、2030年に700億ドルへ成長 2025.10.31해당카페글 미리보기
추이한다. 반도체 재료(전공정, 후공정) 세계시장 클릭으로 확대 출처 : 후지경제 이번 조사는 실리콘 웨이퍼와 포토마스크, 포토레지스트, CMP 슬러리 등 전공정용 재료로 26개 품목, 백그라인드 테이프와 본딩 와이어, 패키지 기판용 구리 적층판 재료...
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반도체 연마장비(CMP), ‘기술자립 시대’ 열어 2005.07.06해당카페글 미리보기
동부아남 등 개인·중소기업들의 출원비중(’98년 9% → ’04년 47%)이 급격히 높아지고 있는 것으로 파악된다. o CMP 장비는 웨이퍼의 면적이 넓어지고 반도체 제조공정에서 차지하는 비중이 증가함에 따라 지속적인 연구개발과 시설확충이 이루어질 것...
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CMP 공정에 사용되는 연마 소모자재 기술의 이해 2014.11.02해당카페글 미리보기
시트위에 폴리우레탄 수직발포층을 접착제 없이 형성 가공한 고정도 탄성지지대인 R200 시리즈가 있다. 사용하는 CMP장치, 웨이퍼 및 가공법에 맞추어 경도를 선택할 필요가 있다. Fig.10.11.12는 그 주요특성을 나타낸다. 그러나, 연마패드와 같이 가공이...