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CMP 장비에서 슬러리 응집 및 오염을 완화하기 위한 소수성 표면 코팅 2025.11.05해당카페글 미리보기
구성되어 있다[1]. 리테이닝 링, 백 킹 필름, 멤브레인, 컨디셔너 디스크 등의 구성 요소는 표 면 접촉의 균일성과 슬러리 흐름을 유지하는 데 중요한 역할을 한다. CMP 장비에서 슬러리 응집 및 오염을 완화하기 위한 소수성 표면 코팅.pdf 1.45MB
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[케이씨텍] CMP 슬러리 개발 연구원 채용 2018.06.18해당카페글 미리보기
http://www.kctech.com ◈ 모집분야 (업무내용) 구분 직무 담당업무 필요역량 학력/전공 근무지 신입/경력 연구개발 -CMP 슬러리 & 첨가제 개발 -해외고객사 기술대응 - 영어 또는 중국어 가능자 우대 - 관련 경험 보유자 우대 학사 이상 / 재료, 신소재...
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입자의 크기 및 개수 측정 Multisizer 4e (파티클카운터 / Coulter Counter / 쿨터 카운터) 2026.08.11해당카페글 미리보기
토너 입자의 크기 분포와 미세 입자 및 조대 입자의 비율을 관리하는데 활용할 수 있습니다. ② 반도체 CMP 슬러리 내 조대 입자 검출 CMP 슬러리 중 공정 불량이나 스크래치 유발할 수 있는 조대 입자의 존재 여부와 개수를 분석하는 데 활용할 수...
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특허로 기술자립 잰걸음… 반도체 소재강국 타이틀 고삐 죈다(CMP슬러리) 2021.06.28해당카페글 미리보기
http://www.dt.co.kr/contents.html?article_no=2021062802101231731001&ref=naver 특허로 기술자립 잰걸음… 반도체 소재강국 타이틀 고삐 죈다 4차 산업혁명 시대에서 반도체 수요 증가에 따른 소재 기술의 중요성이 더욱 커짐에.. www.dt.co.kr