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후막 리소그라피 기술은 기판 위에 감광성 페이스트를 도포한 후 자외선과 패턴마스크를 사용하는 광식각(photolithography) 방법을 이용하여 세부 패턴을 형성시키는 기술이다, 이 기술은 후막기술로서는 높은 해상도인 선폭 30μm 이하의 미세도선을...

후막 광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적인 후막공정에 노광 및 현상 등의 리소그라피 공정을 접목시킨 새로운 기술이다. 본 연구에서는 후막 광식각 기술을 이용하여 미세라인을 형성할 수 있는 저온동시소성용 Ag 페이스트를 개발하였다. 페이스트를...

하였다. 결국 석판의 취급이 어려운 점을 금속 평판으로 치환하고, 석판의 기술을 받아 이은 것이다. 그리고, 이것이 lithography라고 불리고, 지금도 화가 등에 이용되고 있다. 1896년(메이지 29년)에 오가와카 즈마사(小川一真)가 일본 최초의 3색 인쇄...

머물러 있는 것은 미국 주도의 제재 탓에 세계시장을 독점하다시피 한 반도체 장비 제조업체 ASML의 최첨단 극자외선(EUV) 리소그래피(실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 공정) 장비를 들여오지 못하기 때문이다. 이에 따라 화웨이에는 주력상품을...