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디지털 진공 게이지 선택 기준 2024.02.05해당카페글 미리보기
생각보다 범위가 적습니다. 범위가 적다는것은 진공 카운팅이 대기압부터 시작하는것이 아니라 25,000 Micron (24,999 mTorr) 부터 시작한다는 뜻입니다. 그렇기 때문에 대기압이 760,000 Microns 이다보니 25,000 Micron 이상에서의 심각한 누출을 발견...
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스퍼터 증착중 아크발생 원인? 2010.01.15해당카페글 미리보기
원인을 찾고있는데 쉽지가 않습니다. 선배님들의 조언 부탁드립니다. <참고사항> 인가전력 : 500 W (이엔테크놀러지) (DC 450V, 1.1 A) 공정압력 : 5mTorr 초기압력: 1.0*10^-5 Torr 가스 : Ar/N2 10/1 sccm 타겟 : Ti (RND korea) 기판바이어스 : DC -100V
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LLC 공진형 Converter (공진 주파수400Khz) 관련 문제점 해결 부탁드립니다 2016.07.12해당카페글 미리보기
입력 : 입력74V, 1차측 2turn, 2차측 1turn, 소모전류 : 약13A, Ferrite 3단 조립, -->1차측 입력 사이파 250V, 압력 500mTorr, 아르곤가스 주입 - Quartz에서는 방전이 되나 Aluminum tube에서 동작시 방전이 안되며 아래와 같은 문제점이 지속적으로...
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Re:진공모타 성능 문의요.....일단 제작 사용을 보류 하시고..... 2009.07.22해당카페글 미리보기
진공불량으로 무지 불려 다닐지도 모릅니다. 실린더 쪽에 유능한 분들 있으시면 조언을 구해 봅니다. 그리고 진공 , torr ,mtorr 등등 공부해야 될 것들이 많더라고요. 그래서 기술정보 코너를 한참 뒤지고 다녔습니다..... 콤프레샤를 개조해서 쓰실려고...
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스퍼터링으로 증착한 TiN 박막에 크랙이 있네요? 2008.07.03해당카페글 미리보기
같이 크랙이 관찰됩니다. 이유가? 궁금합니다. 증착조건은 다음과 같습니다. 증착물질 TiN 기판: Si(100) DC 700W Sub. Temp 300℃ Sub. Rotation 10rmp Ar/N2= 10/3 B.P. 2.34*10-5 Torr W.P. 5mTorr depo. time 30' 두께는 약 1.22 마이크로 미터입니다...
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PLASMA TECHNOLOGY 2 2006.05.09해당카페글 미리보기
운동 속도인 0.025eV(25℃)에 비해서 크고 증착 압력이 낮을 경우 입자들 간의 탄성 충돌 평균 자유 비행 거리가 길어서(1mTorr에서 3cm at 0.025eV) 방향성을 일부 가지게 된다. 여기에 부가적인 플라즈마를 발생시켜서 스퍼터링된 입자들을 이온화하면...
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68ADV Digital Value Hunting 문제 ? 2008.10.26해당카페글 미리보기
Q68ADV 로 값을 받는데 Voltage 를 찍어 보면 흔들리지 않는데 Digital 값은 많이 흔들립니다. * 0~10V 0~10,000 mTorr 고분해능 0~16,000 사용 약 50mTorr 정도에서 10mTorr 정도 흔들립니다. 10mTorr 면 약 0.01V 인데 어떻게 하면 잡을 수 있을까요 ?
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The Whys and Wherefores of Quadrupole Ion Trap Mass Spectrometry 2006.12.07해당카페글 미리보기
the use of the instrument. Stafford's group's second breakthrough was finding that a helium gas of about 1 mtorr within the trapping volume greatly improved the mass resolution of the instrument by contracting the ion trajectories to...
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열교환기 적용을위한 나노 구조 폴리머 필름에 대한 표면 습윤성 변화의 영향 2018.07.16해당카페글 미리보기
분포되어있다. 폴리이 미드 필름의 구조는 CF하에 300 초 동안 플라즈마 에칭을 이용하여 성장 된 4 : 40 SCCM의 유량으로 30 mTorr의 압력, 및 100 W의 RF 전력이 가스. 이들 구조는 반경 50nm, 높이 200nm의 기둥 형상을 가지며, 고형분은 φ = 0.629...
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물리학과 공정 추진이 45nm 식각 성능을 주도한다 2005.05.18해당카페글 미리보기
at low pressures for etching and ashing ultralow-k films without damage and makes possible operating pressures from <10mtorr to the torr level. Etch profiles depend not only on ion energy, but also on the distribution of energy. Some low...