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(주)태미세미콘 후공정 반도체 인원 COG, SPUTTER ,PHOTO, WET, TEST, 생산,인원 채용 궁금하신점은 인사담당자에게로.... 2013.01.15해당카페글 미리보기
이력서 보내주시면 되겠습니다. 회사소개 기업명 : (주)태미세미콘 업종 : 반도체 제조, Test ◈ 사업내용 반도체 Bump공정(SPUTTER.PHOTO.WET.ETCH.PLATING.완성검사.AVI.TEST.COG)<<<<<반도체 후공정 업무를 해보셨던분이면 정말 좋을거같습니다. 본인의...
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중국 희토류 수출 통제 영향 : GPT 2025.10.10해당카페글 미리보기
High-k 물질 하프늄(Hf), 란타넘(La), 유로퓸(Eu) FinFET / GAA 트랜지스터 절연막, 게이트 산화막. ④ 증착 타겟 / Sputter 재료 이트륨(Y), 가돌리늄(Gd) PVD 공정의 타겟 소재로 사용. ⑤ 노광 장비 내부 렌즈 / 코팅 / 형광체 세륨(Ce), 이트륨(Y...
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[삼양그룹]Sputter 진공, 증착 장비운전 및 관리 경력사원 모집(~5.16) 2008.05.02해당카페글 미리보기
[삼양그룹] Sputter 진공, 증착 장비운전 및 관리 경력사원 모집 http://www.samyang.com 삼양그룹 사업자구분 법인사업체 사 원 수 1200 명 업 종 자 본 금 512억 원 사 업 내 용 식품 및 화학 제품 생산 판매 소 속 협 회 - 소속산업단지 - 담당업무...
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cesium sputter ion source란? 2004.06.14해당카페글 미리보기
원문은, After pretreatment, the sample is converted to graphite on tantalum wire. This is suspended in a cesium sputter ion source, and the ions produced are accelerated through large electrical and magnetic fields. Ions of different...
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In-line Sputter장비 매각 2013.02.18해당카페글 미리보기
당사의 In-line sputter장비를 매각하고자 합니다. 관심있으신분 연락바랍니다. 양산용 In-line sputter장비 이며 장비사양은 아래와 같습니다. -. 외관칫수: 1.2(w) X 1.8 (h) x 6(L) -. sputter 가능 최대 칫수: 700 x 850 mm -. 진공시스템: rotary...